eng
Просмотры: 2401
05.12.2013
Берлин Е.В., Сейдман Л.А.
"Получение тонких пленок реактивным магнетронным распылением"
М.: Техносфера, 2014. – 256c. ISBN 978-5-94836-369-1
"Получение тонких пленок реактивным магнетронным распылением"
М.: Техносфера, 2014. – 256c. ISBN 978-5-94836-369-1
В книге обобщено современное состояние этого процесса, приведена обширная библиография. Представлено подробное описание физических процессов, протекающих во время реактивного магнетронного нанесения, и следующих из них технологических особенностей магнетронного нанесения. Особое внимание уделено способам управления процессами реактивного магнетронного нанесения тонких плёнок, обеспечивающих стабильность и воспроизводимость как самого процесса нанесения, так и свойств получаемых пленок. Описаны изменения состава и структуры получаемых пленок и их зависимость от параметров процесса нанесения. Приведена широкая номенклатура получаемых этим способом пленок сложного состава. Рассмотрены модификации этого процесса, различающиеся используемыми источниками питания:
- постоянного тока,
- среднечастотных импульсов,
- импульсов большой мощности
- ВЧ.
Даны практические рекомендации по освоению известных и разработке новых процессов получения пленок сложного состава методом реактивного магнетронного распыления.
Это уже четвертая книга Берлина Е.В. и Сейдмана Л.А в серии "Мир материалов и технологий". Ранее издательство техносфера уже выпускало книги
этих авторов.
В книге "Получение тонких пленок реактивным магнетронным распылением" рассматриваются такие темы, как:
- причины нестабильности реактивного распыления
- механизмы взаимодействия реактивного газа с поверхностью мишени
- стабилизация и управление реактивным разрядом с помощью внешних по отношению к разряду устройств контроля
- изменение электрических параметров реактивного разряда при изменении состояния поверхности мишени
- стабилизация процесса реактивного магнетронного распыления по электрическим параметрам разряда
- достижение долговременной стабильности процесса реактивного магнетронного распыления
- влияние температуры мишени на процесс реактивного распыления
- влияние температуры подложки на скорость роста и состав пленки в реактивном процессе
- особенности проведения, контроля и стабилизации реактивного HiPIMS-процесса
- альтернативные способы устранения гистерезиса из характеристик реактивного процесса
- некоторые способы повышения эффективности процессов реактивного нанесения тонких пленок
Книга рассчитана на специалистов, занимающихся исследованием, разработкой и изготовлением различных изделий электронной техники и нанотехнологии, совершенствованием технологии их производства и изготовлением специализированного оборудования. Она также будет полезна в качестве учебного пособия для студентов старших курсов и аспирантов соответствующих специализаций.
Об авторах
Берлин Евгений Владимирович
В 1979 г. закончил Воронежский госуниверситет по специальности физика. Основная сфера деятельности: разработка технологических устройств и процессов, а также вакуумных установок ионно-плазменного травления и нанесения тонких пленок. В 1990 году был одним из организаторов OOO"МЭШ-Плюс". С 1994 по 2003 г. занимал должность зам.директора по науке ЗАО НПП "ТИРС" по направлению .Вакуумная техника. В 2003 г.реорганизовал это направление в отдельную фирму ООО "ЭСТО-Вакуум". В настоящее время — генеральный конструктор фирмы ООО "Лаборатория Вакуумных Технологий". Автор и соавтор трех книг, более 40 печатных работ и семи изобретений.
Сейдман Лев Александрович
В 1968 году закончил Московский Институт Электронного Машиностроения. После окончания института работал в НИИ "Пульсар" до 1995 года. Диссертацию на соискание степени кандидата технических наук защитил в ЛЭТИ в 1973 году. В настоящее время — заведующий лабораторией
ИФЯЭ НИЯУ .МИФИ.. Главная область исследований — вакуумные методы получения тонких пленок.
Автор и соавтор более 120 печатных работ, пяти книг и пятнадцати изобретений.
Комментарии читателей
