Холдинг «Швабе» получил патент на способ создания анодной окисной пленки холодного катода газового лазера в тлеющем разряде постоянного тока. Данное покрытие позволяет в 2 раза увеличить ресурс работы холодного катода в газовом лазере.

sitemap
Наш сайт использует cookies. Продолжая просмотр, вы даёте согласие на обработку персональных данных и соглашаетесь с нашей Политикой Конфиденциальности
Согласен
Поиск:

Вход
О компании
Журналы
Книги
Медиаданные
Редакционная политика
Реклама
Контакты
TS_pub
technospheramag
technospheramag
ТЕХНОСФЕРА_РИЦ
© 2001-2025
РИЦ Техносфера
Все права защищены
Тел. +7 (495) 234-0110
Оферта

Яндекс.Метрика
R&W
 
выбрано книг: 0
Хиты продаж
Серии книг
Библиотека Института стратегий развития
Мир квантовых технологий
Мир математики
Мир физики и техники
Мир биологии и медицины
Мир химии
Мир наук о Земле
Мир материалов и технологий
Мир электроники
Мир программирования
Мир связи
Мир строительства
Мир цифровой обработки
Мир экономики
Мир дизайна
Мир увлечений
Мир робототехники и мехатроники
Для кофейников
Мир радиоэлектроники
Библиотечка «КВАНТ»
Умный дом
Мировые бренды
Вне серий
Библиотека климатехника
Мир транспорта
Мир фотоники
Мир станкостроения
Мир метрологии
Мир энергетики
Книги, изданные при поддержке РФФИ
 
Вход:

Ваш e-mail:
Пароль:
 
Регистрация
Забыли пароль?
Медиаданные:

Учредитель
Издатель
Авторам:

Новости
«Швабе» запатентовал защитное покрытие для холодного катода газового лазера
Просмотры: 1038
30.05.2016
Холдинг «Швабе» получил патент на способ создания анодной окисной пленки холодного катода газового лазера в тлеющем разряде постоянного тока. Данное покрытие позволяет в 2 раза увеличить ресурс работы холодного катода в газовом лазере.
Изобретение, созданное специалистами предприятия Холдинга «Швабе» – АО «НИИ «Полюс», относится к области квантовой электроники и может быть использовано при изготовлении холодных катодов для моноблочных газовых лазеров. Новый способ позволяет надёжно защитить поверхность изделия, являющегося эмиттером (прим.: источником) заряженных частиц для создания лазерного излучения, от преждевременного распыления в условиях газового разряда. В результате получают более стабильные рабочие параметры катодов, относительно обработанных традиционными способами.

Главная особенность анодной окисной пленки – практически беспористая структура. Данное качество существенно повышает стойкость покрытия к различным внешним воздействиям.

«Новое покрытие для холодного катода мы протестировали в ходе эксплуатации гелий-неонового газового лазера (прим.: область применения – интерферометрия, голография, спектроскопия, считывание штрих-кодов, демонстрация оптических эффектов, навигационные приборы). Анодная окисная пленка позволила в 2 раза увеличить ресурс работы холодного катода в газовом лазере. Испытания продемонстрировали повышенную стойкость таких катодов к воздействию газового разряда. Это гарантирует повторяемые эксплуатационные параметры катодов в составе изделий, которые приобрели значительно лучшую стабильность по электрическим характеристикам в течение повышенного срока службы», – сообщил временный генеральный директор АО «НИИ «Полюс» Евгений Кузнецов.

Запуск нового способа в производственный процесс запланирован на 2 квартал 2016 года.
 
 Комментарии читателей
Разработка: студия Green Art