eng
Просмотры: 1063
25.05.2016
Холдинг «Швабе» разработал технологию вакуумного нанесения отражающего оптического покрытия с высокой лучевой прочностью. Данная разработка Холдинга позволит изготавливать детали для оптических систем, работающих с высокоэнергетическим лазерным излучением.
Новая технология разработана специалистами предприятия Холдинга «Швабе» – АО «НПО «Оптика». Она предназначена для нанесения покрытий на оптические поверхности деталей диаметром от 3 до 150 мм, изготовленных из различных марок оптических стекол, кварцевых стекол и ситалла.
«Разработанная технология базируется на методе электронно-лучевого испарения в вакууме плёнкообразующих материалов с предварительной ионно-лучевой очисткой поверхности детали и ионно-лучевым ассистированием при нанесении покрытий (прим.: метод формирования тонкопленочных слоев, основанный на ионной бомбардировке рабочей поверхности) с использованием источника ИЛО-200, созданного нашими специалистами. Она может быть внедрена на любых вакуумных установках отечественного и зарубежного производства», – рассказал генеральный директор АО «НПО «Оптика» Сергей Кузнецов.
Конструкция нового оптического отражающего покрытия АО «НПО «Оптика» представляет собой систему чередующихся равнотолщинных и неравнотолщинных диэлектрических слоев двуокиси кремния, двуокиси циркония и двуокиси гафния.
«Разработанная технология базируется на методе электронно-лучевого испарения в вакууме плёнкообразующих материалов с предварительной ионно-лучевой очисткой поверхности детали и ионно-лучевым ассистированием при нанесении покрытий (прим.: метод формирования тонкопленочных слоев, основанный на ионной бомбардировке рабочей поверхности) с использованием источника ИЛО-200, созданного нашими специалистами. Она может быть внедрена на любых вакуумных установках отечественного и зарубежного производства», – рассказал генеральный директор АО «НПО «Оптика» Сергей Кузнецов.
Конструкция нового оптического отражающего покрытия АО «НПО «Оптика» представляет собой систему чередующихся равнотолщинных и неравнотолщинных диэлектрических слоев двуокиси кремния, двуокиси циркония и двуокиси гафния.
Комментарии читателей
