eng
Содержание
Предисловие
Список используемых сокращений
Введение
Глава 1. Классификация процессов ХОГФ функциональных слоев ИМС
Глава 2. Характеристики структуры до и после операции ХОГФ функционального слоя
Глава 3. Технологические характеристики процессов ХОГФ функциональных слоев ИМС
Глава 4. Состав и параметры оборудования ХОГФ функциональных слоев ИМС
Глава 5. Классификация оборудования ХОГФ функциональных слоев ИМС
Глава 6. Механизмы протекания процессов ХОГФ
6.1.
Анализ механизмов термоактивированных процессов ХОГФ
6.2.
Особенности механизмов плазмоактивированных процессов ХОГФ
6.3.
Особенности механизмов процессов ХОГФ с дискретной подачей реагентов
Глава 7. Функциональные слои ИМС, осаждаемые в процессах ХОГФ
7.1.
Эпитаксиальные монокристаллические пленки кремния (Si), германия (Ge) и гетероструктуры кремний – германий (Si1-xGex)
7.2.
Пленки нелегированного и легированного поликремния и аморфного кремния
7.3.
Пленки диоксида кремния, нелегированных и легированных силикатных стекол
7.4.
Пленки нитрида и оксинитрида кремния
7.5.
Пленки диэлектриков с низкой диэлектрической постоянной (low k dielectrics)
7.6.
Пленки диэлектриков с высокой диэлектрической постоянной (high k dielectrics)
7.7.
Пленки вольфрама, его силицидов, нитридов и карбидов
7.8.
Пленки титана, его силицидов и нитридов
7.9.
Пленки тантала и его нитридов
7.10.
Пленки алюминия и его сплавов
7.11.
Пленки меди
7.12.
Пленки кремнийорганических фоторезистов для глубокого ультрафиолета (DUV photoresists)
Заключение
Литература
Сведения об авторах